25 Ноября 2024
В избранные
Сделать стартовой
Подписка
|
|
|
|||||
|
Технологии
Корпорация Intel заказала производство пробного экземпляра новой
EUV-установки для литографии, которая, по мнению аналитиков компании,
позволит Intel в несколько раз увеличить производительность
выпускаемых ими микросхем, сообщает ZDNet News.
Установка для литографии с использованием "глубокого" ультрафиолета (Extreme Ultraviolet Lithography, EUV) способна значительно уменьшить размер микросхем, доведя размер отдельных транзисторов до 0,07 мкм и, таким образом, увеличить их производительность. Так, при помощи новой установки, Intel надеется довести свои процессоры до частоты более 10 ГГц. Intel, станет первым производителем микросхем, получившим в свое распоряжение подобную установку. Представители корпорации отказались сообщить, сколько она им стоила. Между тем, Intel не окажется единственным производителем, располагающим этой технологией. В консорциум EUV LLC, занимающийся разработкой новой технологии совместно с правительством США, входят кроме Intel такие электронные гиганты, как Advanced Micro Devices (AMD), IBM, Infineon, Micron Technologies и Motorola. По предположениям экспертов, коммерческие продукты, созданные на основе технологии EUV, появятся на рынке примерно через пять лет.
Рекомендуем
Обсуждение новости
| ||||||
|
||||||
|
||||||
Наш канал в Telegram
вверх
Пишите нам