24 Ноября 2024
В избранные Сделать стартовой Подписка Портал Объявления
Технологии
Intel раскрывает новые детали о процессорах Penryn, Мур называет их событием 50-летия
29.01.2007
Следующий техпроцесс, 45 нм, будет осваиваться компанией на процессорах поколения Penryn - Yorkfield и Wolfdate (Wolfdale), которые не слишком архитектурно отличаются от нынешних Core 2 Duo/Extreme.Существенная смена архитектуры произойдет в поколении процессоров Nehalem.

О некоторых технологических же инновациях, которые будут внедрены в Penryn, любезно рассказали руководители Intel, Марк Бор и Стив Смит.

Итак, двухъядерные процессоры Penryn (кодовое имя Wolfdate) будут состоять из 410 млн. транзисторов, четырёхъядерные Wolfdate - из 820 млн. Для сравнения - в Conroe (Core 2 Duo) - 298 млн. транзисторов.

Сохранение процессорного разъёма Socket 775 для таких процессоров не станет залогом совместимости нынешних системных плат с ними - есть вероятность электрической несовместимости.

Представители Intel подтвердили, что Penryn будет отличаться от Conroe новыми материалами, используемыми в качестве диэлектрика - будет произведен отказ от двуокиси кремния, которая используется Intel последние десятилетия, в пользу диэлектриков с большой диэлектрической постоянной (high-k). Это позволит отказаться от затворов из поликристаллического кремния и использовать металлические. Лишь один этот шаг способен на 20% увеличить скорость переключения транзисторов и, как следствие, повысить быстродействие процессоров.

Гордон Мур, автор знаменитого закона, называет внедрение high-k диэлектриков самым значительным изменением в технологии производства транзисторов с конца 60-х годов. Тогда были представлены транзисторы с поликремниевым затвором.

Материал, используемый в качестве high-k диэлектрика, содержит гафний, другой информации о нём нет.

Производство процессоров Penryn стартует во второй половине текущего года на фабриках D1D в Орегоне, Fab 32 в Аризоне и, чуть позже, на Fab 28 в Израиле.

Также кое-что было рассказано официальными лицами Intel и о более далеких планах компании. Производственный план усовершенствования литографических процессов Intel отныне не заканчивается 32-нм нормами. Техпроцесс, имеющий кодовое имя P1270 будет внедрятся компанией начиная с 2011 года и будет означать начало внедрения 22-нм норм.

Завершили своё выступление представители Intel следующим тезисом: "Архитектура Nehalem появится в 2008 году".


 
Количество просмотров:
139
Отправить новость другу:
Email получателя:
Ваше имя:
 
Рекомендуем
Обсуждение новости
 
 
© 2000-2024 PRESS обозрение Пишите нам
При полном или частичном использовании материалов ссылка на "PRESS обозрение" обязательна.
Мнение редакции не всегда совпадает с мнением автора.